科技驱动技术
Innovation-driven technology
LINDA离子减薄仪浏览数:55次
SC-2000离子减薄仪概括 1、利用快速的剖面切削制备样品的横断面 2、通过表面细抛,最终研磨制备SEM或EBSD的样本 3、离子枪能量:标配100eV到10KeV,或可追加16keV超高能量离子枪 4、数码式参数设定和自动操作 5、可旋转和oscillation样本摇摆 6、可高精细定位加工样本的特定部位 7、配置高分辨CCD照相机,通过显示器实时观察抛光过程 8、通过Peltier制冷(SC-1000)或液氮制冷(SC-2000)保护样本受超负荷过热的影响 9可选择多种样本支架适合各种大小的样本 SC-2000特征(1) 全自动多功能离子减薄仪SC-2000适应于材料学,半导体电子业的研究开发各种需求。 可用于剖面切削 也可适合表面研磨抛光,制备精致而无损伤的SEM/EBSD的样品 全自动控制操作,容易使用 嵌入式计算机系统,软件操作界面直观易用,便于初心者的简单设定,也适合高级用户变更设定减薄参数 按样品性质和制备要求,可以自由编程,保存,调出制样程序,或者设定预编程。避免人工操作的个体误差 快速制备无损样品 可选择从超低到超高能量的离子枪 (100 eV- 16 keV)(16 keV离子枪为可选项) 广范围离子能量的两个独立离子枪,即适合于快速切削(达530 µm/h@ 10 keV ),也适应于快速切削后的 表面无损细抛光(超低能量离子枪为专利产品) SC-2000特征(2) 快速电动交换样品 气锁系统和电动样品台便利于快速而容易交换样品(电动样品台为可选项) 气锁系统可保护工作腔室的真空,尤其对大通量的用户可显著节约样品交换时间 独一无二的多种样品台 根据样品性质和制备要求,有多种样品台可供选择 适合于剖面切削的 30°, 45° 和 90°倾斜样品台,装载样品时可预先设置切削角度 高精度电动样品台(2 µm),适合于各种特效要求的高级用户(可选项) 表面抛光样品台提供大面积的抛光平面,用于SEM/EBDS样品制备,以及半导体电子行业的大样品 样品冷却台 为防护对热敏感的样品,可选择液氮或者Peltier冷却台(可选项) 液氮冷却台适合于对热敏感或者冷冻样品,样品可以控制在零下温度下制备,需要液氮供应 Peltier冷却台防止制样时过热现象,样品保持在室温下制备,不需要液氮等消耗品容易使用 上一篇: 电子束感应电流EBIC
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