LINDA离子减薄仪

SC-2000离子减薄仪概括

1、利用快速的剖面切削制备样品的横断面

2、通过表面细抛，最终研磨制备SEM或EBSD的样本

3、离子枪能量：标配100eV到10KeV，或可追加16keV超高能量离子枪

4、数码式参数设定和自动操作

5、可旋转和oscillation样本摇摆

6、可高精细定位加工样本的特定部位

7、配置高分辨CCD照相机，通过显示器实时观察抛光过程

8、通过Peltier制冷（SC-1000)或液氮制冷（SC-2000)保护样本受超负荷过热的影响

9可选择多种样本支架适合各种大小的样本

SC-2000特征（1）

全自动多功能离子减薄仪SC-2000适应于材料学，半导体电子业的研究开发各种需求。

可用于剖面切削

也可适合表面研磨抛光，制备精致而无损伤的SEM/EBSD的样品

全自动控制操作，容易使用

嵌入式计算机系统，软件操作界面直观易用，便于初心者的简单设定，也适合高级用户变更设定减薄参数

按样品性质和制备要求，可以自由编程，保存，调出制样程序，或者设定预编程。避免人工操作的个体误差

快速制备无损样品

可选择从超低到超高能量的离子枪 (100 eV- 16 keV)（16 keV离子枪为可选项）

广范围离子能量的两个独立离子枪，即适合于快速切削（达530 µm/h@ 10 keV ），也适应于快速切削后的

表面无损细抛光（超低能量离子枪为专利产品）

SC-2000特征（2）

快速电动交换样品

气锁系统和电动样品台便利于快速而容易交换样品（电动样品台为可选项）

 气锁系统可保护工作腔室的真空，尤其对大通量的用户可显著节约样品交换时间

独一无二的多种样品台

 根据样品性质和制备要求，有多种样品台可供选择

适合于剖面切削的 30°,   45° 和 90°倾斜样品台，装载样品时可预先设置切削角度

高精度电动样品台（2 µm），适合于各种特效要求的高级用户（可选项）

 表面抛光样品台提供大面积的抛光平面，用于SEM/EBDS样品制备，以及半导体电子行业的大样品

样品冷却台

为防护对热敏感的样品，可选择液氮或者Peltier冷却台（可选项）

液氮冷却台适合于对热敏感或者冷冻样品，样品可以控制在零下温度下制备，需要液氮供应

Peltier冷却台防止制样时过热现象，样品保持在室温下制备，不需要液氮等消耗品容易使用