SP-010溅射模块主要配置与CUU-010HV高真空离子溅射仪所进行使用，此款模块结构简单可靠，具备在高真空下进行高质量溅射镀膜需要，此模块把磁控管、靶材、挡板、工艺压力调节器和电源器件完全整合到一个独特的、耐用的装置中，装置准备就绪，随时可以运行，并且便于维护。通过创新性的接口供电、供气和传送信号，只需一项手动操作，就可以把系统设置成溅射装置。

   SP-010溅射头的磁控管是为优化目标使用而设计的。这使得它成为电子显微镜下精细贵金属薄膜的完美工具。对于最小粒径的涂层，需要涡轮泵结合CCU-010高压系统。

模块特点：

·   以电子方式控制工艺真空度，确保容器内压力稳定。
·   设有环形气孔，确保工作气体分布均匀。
·   对碎片进行探测和监控，确保安全操作。
·   具备靶材冷却功能，带有温度监测，确保运行顺畅。
·   采用统一的电气和气体接口，与CCU-010 HV和CCU-010 LV主体机配套使用。

指 标 参 数

　　　　　外形尺寸： 250× 160×80 (mm）        模块重量   ：3.1kg

　　　　　靶材尺寸： 54                                     控制模式： 微处理器控制

　　　　　最大功率： 45W                                  溅射电流： ≤100 mA

　　　　　溅射时间： ≤900s                                溅射气体 ： 氩气、空气等（可选）

指 标 参 数

　　　　　外形尺寸： 250× 160×80 (mm）        模块重量   ：3.1kg

　　　　　靶材尺寸： 54                                     控制模式： 微处理器控制

　　　　　最大功率： 45W                                  溅射电流： ≤100 mA

　　　　　溅射时间： ≤900s                                溅射气体 ： 氩气、空气等（可选）

模块特点：

·   以电子方式控制工艺真空度，确保容器内压力稳定。
·   设有环形气孔，确保工作气体分布均匀。
·   对碎片进行探测和监控，确保安全操作。
·   具备靶材冷却功能，带有温度监测，确保运行顺畅。
·   采用统一的电气和气体接口，与CCU-010 HV和CCU-010 LV主体机配套使用。