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离子溅射仪-溅射过程

作者:禾早

GVC-2000实拍5.jpg   Microhezao系列离子溅射仪,它的真空系统是由小型真空泵组成,能提供良好的真空溅射镀膜环境,真空度可达0.1Pa。全自动控制,只要一键操作就可以自动完成抽真空,镀膜,放气等全过程。仪器选用离子溅射镀金属膜,满足高分辨率场发射电镜的需求,可以获得极其细腻的金属膜,也可以用于电极样品制备等特殊用途。

   离子溅射仪集合了二极溅射模式之精华,并经重新定义设计,独特的电流与真空度记录曲线相结合可以进行常规的样品制样,还可以满足各种复杂特殊材料的样品制备要求,对于高分子薄膜,地质材料,半导体材料等各种样品的制备可以轻松应用。


离子溅射仪-溅射过程

  1. 将需要溅射的样品放入离子溅射仪的样品仓中,盖好样品仓的外罩,可以打开真空泵的电源按键,开始进行抽真空。

  2. 当样品仓中的剩余压力或注入的惰性气体的压力在5Pa左右既可以接通溅射电源。

  3. 在靶材上加上负高压,靶材与阳极之间构成一个负高压电场区域,腔体的残余空气或注入的惰性气体就会被电离,带正电的正离子被阴极吸引桩基靶材,产生辉光现象。

  4. 靶材释放出来的原子或原子团之间,以及它们与腔体其他残余气体、离子相互碰撞,金属原子或原子团四处发散形成雾状,然后降落并沉积在试样表面就会形成一层比较均匀而细腻的金属膜。

  5. 溅射层的膜厚主要取决于溅射时间的长短和溅射电流的大小。

  6. 溅射层金属颗粒的细腻程度取决于靶材的成分、溅射方式、试样的温度、溅射电流的大小和试样与靶材的距离,此外还与溅射的真空度有关,真空度越高,冲入的惰性气体就会越纯,溅射后形成的膜层傀儡也就越细腻。

离子溅射仪常用的靶材有金、金靶、铂、铬、铱等。