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高真空离子溅射仪-GVC-2000T

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GVC-2000T是一款容易操控的磁控离子溅射仪,为自动化技术镀膜机给予市面上最好使用价值的商品。它被用于非导电性样品的预备处理商品,以提升三维成像屏幕分辨率,样品导电率,电子电荷降低并减少对比较敏感样品的光线损害。

GVC-2000T高真空离子溅射仪集成化了 LCD 触摸显示屏操作界面,有利于实际操作。外界机械泵(随附)可完成迅速真空泵,进而为大部分规范SEM剖析给予充足的涂层晶体规格。

GVC-2000T高真空泵离子镀膜器是一种根据直流溅射基本原理将导电性原材料(如Pt-Pd,Pt,Au和Pd)涂敷到样品表面上的设备。除此之外,非导电性样品用以在透射电镜下开展数据可视化,及其维护样品表面免遭引入离子束的危害并帮助电子器件流动性。他们乃至可以作为塑料薄膜型电级的产生。

数据离子镀膜机

真空泵镀膜 — 点射触摸镀膜系统软件,最大可达自然压

涂层电流量意见反馈作用保证涂层平稳

选用低噪声旋转泵

可与多种多样金属材料靶材一起应用

在腔房间内以设置的真空泵情况在总体目标和样品中间增加电流后,剩下的气体分子结构变为等离子体(电离),并产生电子器件和离子。

除此之外,快速行驶的离子和电子器件与汽体分子结构撞击,在其中电离根据抵触分子结构的电子器件来加快电离。接着的离子在方向的负极一部分撞击并碰撞总体目标颗粒物,使原材料的颗粒物撞击并融合产生涂层。

溅射仪-4.jpg

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